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產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱：多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)NANOSAQLA
產(chǎn)品型號：多檢體NANO粒徑測量系統(tǒng)
產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)NANOSAQLA 界達電位ELSZ 多檢體NANO粒徑測量系統(tǒng) 多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)NANOSAQLA

詳情介紹：

特點

只需一臺，輕松實現(xiàn)5檢體連續(xù)測量
低濃度到高濃度都可對應
高速測量，標準時間1分鐘
搭載了簡單的測量功能 (1鍵測量)
內(nèi)置非浸泡型的cell block，無分注夾雜物
搭載溫度梯度功能

多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLa

測量范圍（理論值）

粒徑 0.6nm～10μm
濃度范圍 0.00001～40％
溫度范圍 0～90℃*

仕樣

型號多檢體NANO粒徑測量系統(tǒng)

測量原理動態(tài)光散射法

光源高出力半導體激光*1

檢出器高感光度APD

連續(xù)測量 5檢體

測量范圍 0.6nm ～ 10μm

對應濃度 0.00001 ～ 40% *2

溫度 0 ～ 90℃ （有溫度梯度功能） *3

規(guī)格遵照 ISO 22412：2017

遵照JIS Z 8828：2013

遵照JIS Z 8826：2005

尺寸 W240 X D480 X H375 mm

重量約18 kg

軟件平均粒徑解析（累積法解析）

粒度分布解析

（Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法）
粒度分布疊寫
逆相關(guān)函數(shù)?殘差plot
粒徑monitor
粒徑顯示范圍（0.1 ～ 106 nm）
分子量計算功能

型號	多檢體NANO粒徑測量系統(tǒng)
測量原理	動態(tài)光散射法
光源	高出力半導體激光*1
檢出器	高感光度APD
連續(xù)測量	5檢體
測量范圍	0.6nm ～ 10μm
對應濃度	0.00001 ～ 40% *2
溫度	0 ～ 90℃ （有溫度梯度功能） *3
規(guī)格	遵照 ISO 22412：2017
遵照JIS Z 8828：2013
遵照JIS Z 8826：2005
尺寸	W240 X D480 X H375 mm
重量	約18 kg
軟件	平均粒徑解析（累積法解析）
粒度分布解析
（Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法）粒度分布疊寫逆相關(guān)函數(shù)?殘差plot 粒徑monitor 粒徑顯示范圍（0.1 ～ 106 nm）分子量計算功能

*1 根據(jù)激光**基準（JIS C6802）級別區(qū)分，本儀器的**級別為1級。
*2 Latex120nm：0.00001 ～ 10％、牛黃膽酸：～40%
*3 標準glass cell的批量測量的情況。
一次性cell或連續(xù)測量時， 15 ～ 40℃ （不對應溫度梯度）

測量范例

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產(chǎn)品名稱：多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)NANOSAQLA